中国勢が国産液浸ArF露光装置を製造開始、EUV使わず1.4nm相当技術開発へ - セミコンポータル

中国・上海の国営半導体製造装置メーカーが、長年オランダのサプライヤである蘭ASMLが事実上独占してきた液浸深紫外（Immersion DUV）リソグラフィ装置（関連キーワードはありません