KURAGE online | 国産 の情報 > 低消費電力の国産EUV露光装置につながる新技術の開発秘話:電子機器設計 投稿日:2025年2月25日 国産EUV露光装置につながる新技術の開発秘話. AIブームを支えるNVIDIAのGPUなどをはじめ、最先端半導体の製造に必要不可欠となったEUV(極端紫外線)露光装置関連キーワードはありません 続きを確認する