KURAGE online | 国産 の情報 > 「三養NCケムは半導体核心素材であるフォトレジストの基礎素材を国産化し、日本が先取りした ... 投稿日:2024年11月24日 三養NCケムは、半導体の核心素材であるフォトレジスト(感光液)の主要構成要素であるポリマーと鉱山発散剤(PAG)を国内で初めて国産化することに成功した企業関連キーワードはありません 続きを確認する